PECVD ガスおよび流量制御システム

PECVD システムのガス供給は、ほとんどの場合、多くの安全装置を備えたガスキャビネット内に置かれたガスシリンダーによって供給され、ガスキャビネット上の制御パネルとパイプを介して PECVD のプロセスチャンバーに供給されます。

成膜では反応ガスの量が成膜速度や成膜の均一性に影響を与えるため、ガス流量を厳密に制御する必要があり、正確な制御を行うために通常は質量流量計が使用されます。

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