Ta-C 内部応力に対する金属ドーピングの影響 (ドーピングされた金属の種類: Cu、Ti、Fe)

ta-C 内部応力に対する金属ドーピングの影響 (ドーピングされた金属の種類: Cu、Ti、Fe)

図１に示すように、金属含有量が低い場合、硬度低下の割合は応力低下の割合よりも小さく、ドーピング量が非常に少ない場合、摩擦係数は基本的に変化しない。 図２に示すように、ドープされた金属含有量による膜の硬度の変化の関係は基本的に同じであり、より重要なことに、異なる金属元素をドーピングすると、硬度の値は非常に近くなる。

Ar イオンのアシスト後、表面粗さは大幅に改善され、Ra{{0}}.4nm に達することがあります。 Ar+処理後、膜の表面は滑らかで平坦になり、摩擦係数は0.14から0.1に減少します。 ta-C 硬度5500Hv、弾性率430GPa、応力2.1GPa、厚さ1.5μm。 ta-Cフィルムの寿命は約100倍に向上します。

シリコンドープDLCのシリコンソースは何ですか?
Si含有量の少ないSiC

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