DLC プラズマ化学蒸着 (PECVD)

DLC プラズマ化学蒸着 (PECVD) とは、ガス炭素源をさまざまな炭素含有中性基またはイオン基 (CH3、CH2、CH+、C2 など) と原子 (またはイオン) 水素 (H 、Ｈ＋）を低圧プラズマ放電によって放出し、炭素含有基が基板の負のバイアスの下で基板表面に衝突して吸着される。 同時に、原子状水素は構造内の sp2 炭素をエッチングすることができるため、sp2 および sp3 炭素ハイブリッド構造を持つ水素化ダイヤモンド状膜が形成されます。 この方法では、蒸着パラメータを変更することで、原料ガスの分解速度を向上させ、蒸着温度を下げ、所望の品質の膜を得ることができます。

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