真空イオンプレーティング（PVD）プロセス

真空イオンプレーティング（PVD）プロセス

ご存知のように、コーティング、気相生成法、酸化法、イオン注入法、拡散法、電気めっき法、コーティング法、液相生成法など多くの方法があります。気相生成法は分割することができます。物理的蒸気堆積、化学的蒸気堆積、および放電重合に。 本日主に紹介するのは、物理蒸着法、すなわちPVD（物理蒸着）です。 この方法は基本的に真空環境で行われるため、真空イオンプレーティング技術とも呼ばれます。
PVDコーティング技術とは、真空状態、低電圧、大電流アーク放電技術の衝撃ターゲットの使用、ガス放電の使用、ターゲットの蒸発、および材料とガスの蒸発が電界の加速を使用してイオン化されることを指します、その結果、材料の蒸発とその反応生成物がワークピースに堆積します。
製品のコーティングプロセスは高真空環境であり、コーティング機内の空気圧は非常に低く、真空プロセス中に製品の表面のグリース、不純物、および水がオーバーフローし、真空が不安定になるため、製品の表面と内部には非金属物質が含まれていてはならず、表面も絶対的な清浄度を確保する必要があります。
真空コーティングプロセスは、材料検査、表面の洗浄、高温ベーキング、吊り下げツール、コーティング（PVD）、コーティング材料、伸線処理（アンティーク銅）、ナノ指紋防止処理、ベーキング、吊り下げツールを経る必要があります。検査、パッケージング、および12以上のプロセスを完了します。

IKS PVD会社、装飾コーティング機、工具コーティング機、DLCコーティング機、光学コーティング機、PVD真空コーティングライン、ターンキープロジェクトが利用可能です。 今すぐお問い合わせください、Eメール：iks.pvd@foxmail.com