PECVD 基板温度

基板温度が膜の品質に与える影響は、主に膜の局所状態密度、電子移動度、および光学特性にあります。 基板温度の上昇は、膜表面の懸濁結合の補償に有益であり、膜の欠陥密度が減少します。

基板温度は堆積速度にはほとんど影響しませんが、膜の品質には大きな影響を与えます。 温度が高いほど堆積膜の密度は大きくなり、温度が高いほど表面反応が促進され、膜の組成が改善されます。

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