DLCコーティングTa-Cの内部応力を低減するための対策と方法

DLCコーティングta-Cの内部応力低減対策と方法
応力の発生はコーティングプロセスのメカニズムによって決定され、固有のものであると考える人もいますが、研究では、応力を軽減し、膜の密着性を向上させるためにいくつかの効果的な方法を使用できることが示されています。 ta-C のストレスを軽減する方法はたくさんあります。 低応力かつ高硬度のta-C膜を得るために、シリコンドープ、金属ドープ、Ar+イオンビームアシスト、多層膜などの主な作業が行われます。

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