化学蒸着 (CVD)

化学蒸着 (CVD) は、ガス状反応物質と基板表面の間の化学反応に基づく、広く使用されている薄膜蒸着技術です。 CVD では、前駆体ガスが反応チャンバーに導入され、基板上に固体膜を堆積する化学反応を促進するために高温に加熱されます。

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