PVDスパッタコーティング

PVDスパッタコーティング

スパッタリングは、金属やセラミックなどのターゲット材料に高エネルギーのイオンを衝突させる PVD ​​コーティング プロセスです。 これにより、ターゲット材料の原子が表面から放出またはスパッタリングされ、基板上に堆積されます。 スパッタリング コーティングで使用されるイオンはプラスまたはマイナスの場合があり、使用されるイオンの種類はコーティングの性能に影響します。

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