中周波マグネトロンスパッタリング電源

中周波マグネトロンスパッタリング電源の出現は、主にDC電源反応性スパッタリング中のターゲット中毒とアーク点火によるものです。アークスパッタリングは、反応性スパッタリングで現れるだけでなく、金属のdcスパッタリングでも発生する可能性があり、その結果、コーティングの表面形態が十分に密集せず、システムの安定性とフィルムの品質に深刻な影響を与えます。負荷として2つのスパッタリングターゲットを備えた中間周波数スパッタリング電源、2つのターゲットが交互に機能するので、スパッタリングターゲットは、スパッタリングによる逆電圧の半分以上の時間のスパッタリングサイクルで、ターゲット材料の表面に蓄積された電荷を完全に放電します、アーク放電とターゲット中毒の表面を抑制するのに役立ち、特に膜層を使用する反応環境に適しています。
DC電源と比較して、電源に周波数とデューティサイクルの調整機能（方形波出力タイプのみ）もある場合、これら2つのパラメータもコーティングプロセスに重要な影響を及ぼします。

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