イオンプレーティング

Dec 06, 2019|

イオンプレーティング

一方では、イオンコーティングは原子のターゲットをワークピース堆積物の表面に照射することであり、他方では、コーティングとの接着を強化するためにワークピースの表面に衝突する高速中性粒子があります。基材（最大10〜20MPa）。
この方法は、その強い適応性、均一な密度、優れた靭性、速い堆積速度のために広く使用されています。