イオンビームスパッタリングコーティング
Jan 25, 2022| イオンビームスパッタリングコーティング
イオンビームスパッタリング(IBS)は、イオン源を使用してスパッタリングターゲットを基板上に堆積し、優れた精度で最高品質の薄膜を生成する薄膜堆積技術です。 他のスパッタリング法と比較して、イオンビームスパッタリングは精度が高く、基板の厚さを正確に制御できます。 通常、イオンガンによって生成されるイオンビームは、スパッタリングターゲットに集束され、スパッタリングターゲット材料は、最終的に基板上に堆積されて、薄膜を形成する。

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