高い真空

高い真空

10^-1~10^-6PA

10^-3~10^-8トル

ガスプロパティ

分子間の衝突はまれであり、分子と壁の間の衝突は頻繁にあり、ガス分子の密度は小さいです

選択とアプリケーションの原則

真空冶金、真空コーティング、真空デバイスの生産は、小さなガス分子密度の特性と、あらゆる物質と残留ガス分子間の弱い化学的相互作用を使用して実行されます。

アプリケーション調査

希少金属、超純金金属および合金、および半導体材料の真空融解と精製。一般的に使用される構造材料の真空還元冶金。 2。純粋な金属の真空蒸留精製。放射性同位体蒸発; 3。難治性金の真空焼結; 4。半導体材料の真空精製と結晶調製。 5.高温金属顕微鏡と高温材料の実験装置の製造。 6。真空コーティング、イオン着床。フィルムエッチングなどの表面修飾。 7.電気光学チューブ、イオンチューブ、電子源チューブ、電子ビームチューブ、電子回折計、電子顕微鏡、X線顕微鏡、粒子加速器、エネルギー分光計、核放射線分光計、中性子チューブ、ガスレーザーの製造電気真空産業。 8。電子ビームの脱ガス、電子ビーム溶接、ゾーン融解、電子ビームの添加

IKS PVD Company、装飾コーティングマシン、ツールコーティングマシン、DLCコーティングマシン、光コーティングマシン、PVD真空コーティングライン、ターンキープロジェクトが利用可能です。今すぐお問い合わせ、電子メール：iks.pvd@foxmail.com