イオンプレーティングの基本原理

Apr 03, 2020|

イオンメッキの基本原理:真空条件下では、プラズマイオン化技術を使用して、メッキ材料の原子の一部をイオン化します。 同時に、高エネルギーの多くの中性原子が生成されます。 したがって、深い負のバイアスの作用下で、基板表面にイオンが堆積して薄膜を形成します。

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