
- 製品説明
IKS-H750表面メタライズコーティング生産ライン
NdFeB ( ネオジム 鉄 ホウ素 )セラミックチップ表面メタライズコーティング製造ライン

機器アプリケーション:
NdFeBセラミックスチップ表面にマグネトロンスパッタリング法、 テルビウム (Tb)金属膜、 ジスプロシウム (Dy)金属膜を蒸着し、拡散処理によりマグネトロンセラミックスの性能を向上させる。
IKS - H750生産ラインは、統合されたインラインコーティングシステムは、小さなセラミックチップのメタライゼーションコーティング、最大60,000 - 100,000pcs.Suitable NdFeBマグネトロンセラミックチップの表面メタライゼーション機能のフィルムコーティングのようなテルビウム(Tb)、ジスプロシウム(Dy)、アルミニウムなどのスパッタリング表面改質フィルム生産ラインは、自動設計、連続バッチ生産、高い生産効率、良好な信頼性を採用しています。

技術特性:
1.大量生産とバッチ生産、バッチメタライズプロセス。
2.生産ラインは、環境や人体へのダメージを軽減します。
3.それはテルビウム(Tb)の浸透とジスプロシウム(Dy)の浸透の量を制御し、希少物質の使用を節約し、使用効率を向上させます。
4.統合されたインラインメタライゼーションプロセスは、テルビウム(Tb)浸透とジスプロシウム(Dy)浸透の深さを向上させ、性能を向上させました。
5.統合されたインラインコーティングシステム。標準化されたモジュール設計、プロセスモジュールは、実際の生産要件に応じて、プロセスと製品のアップグレードが容易で低コストであることを改善し調整することができます。
技術的パラメータ:
1. 効果的な設置スペース : W7000XL23000XH1500mm | 7.スパッタリング:DCマグネトロンスパッタリング |
2.真空チャンバー : W1650XL16400XH500mm | 8. 堆積 ラット :<> /時間、0.5nm精密 |
3.ローディングフレーム:W1050XL1050 | 9.設計:真空チャンバとプロセスモジュール化設計 |
4.ターゲット材質:ツインターゲットW110XL1 050mmまたはツインターゲット Ф110XL1050mm | 10.プロセス:流量計およびバルブ制御プロセスガス |
5.ワークピース:セラミックチップ、厚さは2-15ミリメートルです | 11.電源:380V 50Hz |
6.真空ラン:ATM-6×10 -4 Pa | 12. 外部フランジ:KF16およびKF25 |
13. 真空システム:ロータリーポンプ、ルーツポンプ、分子ポンプ |

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