ターゲットフィルムの調整可能な色を用いたPVDコーティング方法

ターゲット膜の調整可能な色を用いたPVDコーティング方法

1.金属フィルムをめっき、金属ターゲット材料を搭載したコーティングチャンバーにメッキする製品を渡し、ポンプ真空と加熱装置を開いてベースを加熱し、バックグラウンドの真空が110-3Paおよび80-150に達できるように、プロセス温度の後、10-1000sccmのアルゴンガスがチャンバに注入され、スパッタリング力が開始される、スパッタリングパワーが1-15kWに設定され、塗布時間が10〜300sに設定され、厚さ1~100nmの金属膜層が得られ、金属膜層が銅(Cu)、銀(Ag)、アルミニウム(Al)、クロム(Cr)その他の金属フィルム、またはニッケル銅(NiCu)である。NiCr (NiCr) 合金フィルム;2.低屈折率フィルムをめっきする。完成した金属フィルムは、低屈折率フィルムを形成し、プロセス温度を80-150まで加熱できる対象材料の被覆室に移され、プロセスガスがチャンバーに通過し、スパッタリングパワーが1-15kWに設定され、コーティング時間が1-300sに設定され、低屈折率膜層が1〜100nmの厚さを有する低屈折率膜層が得られる。、低屈折率フィルム層は、シリコン酸化物窒化ケイ素膜層などであり、(3)高屈折率フィルムをめっきする。低屈折率フィルムのめっき後、高屈折率フィルムを形成できる対象材料の被覆室に転化し、80〜150まで加熱して厚さ1~100nmの高屈折率フィルム層が得られる。高屈折率フィルム層は、窒化チタン窒化ジルコニウム窒化ジルコニウムニトビジウムニトビジウム酸化亜鉛酸化インジウム酸化アルミナ酸化鉄酸化クロム酸化この高及び低屈折膜のプロセスガスはAr N2 O2の少なくとも1つである、 Arガスの流量が10-1000SCCMである場合、N2ガスの流量は10-1000SCCM、O2ガスの流量は10-1000SCCM.4である。異なる色のフィルム層を取得するには、手順 2 と手順 3 を数回繰り返します。ステップ 2 とステップ 3 を 1 ~100 回繰り返します。

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